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プロセスガスのろ過

ドライプロセスの進化

半導体製造向け高純度ガスのろ過

半導体製造工程では、ドライプロセスの発展により、あらゆる種類の高純度ガスの需要が高まっています。適切なろ過技術をバルクガスやPOUに適用することが非常に重要です。

 

除粒子性能、圧力損失特性、初期清浄度、そして、フィルターばかりでなく他の配管部材も含めて、アウト(脱)ガスの影響も考慮しなければなりません。

 

当社のオールメタルフィルターはじめ高性能フィルターは分子状の汚染物を除去し、ガス置換特性にも優れています。O-リングのないシール構造の“ガスクリーンⅤ”フィルターは、アンモニアやオゾン向けにも適しており、コンパクトなデザインで大流量処理ができます。

 

用途:

 

  • バルクろ過
  • POUろ過

 

利点:

 

  • ガス関連の欠陥低減
  • 多様なガス腫に応じたフィルター
  • 業界最先端の製品性能
  • アウトガスと粒子汚染の防止

 

ポールのガスフィルターは、超高純度を要求される半導体ガスプロセスにおいて粒子汚染を防ぎます。

 

ガスフィルターに関するお問い合わせは当社までご連絡ください。

ガスフィルターのお問い合わせは、下記に記入してください。

 

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  • マイクロエレクトロニクス
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製造プロセスで使用される幅広い流体について、ろ過・分離・精製の技術を提供いたします

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