サポートされていないブラウザです。アップグレードをお願いします。 閉じる
マイクロエレクトロニクス

半導体

化学薬品、ガス、水、CMPスラリー、フォトレジストなどのさまざまな流体に関して、ポールのろ過・分離・精製技術を提供しています。

微細化対応   高流量・高清浄度フィルター

汚染制御は、半導体デバイス製造において最も重要な技術課題の1つです。

半導体業界において、ポールの高性能製品は、プロセスガスのろ過、超純水、ウェットエッチ、洗浄など、幅広い用途で使用されています。当社が開発・製造しているろ過・分離・精製製品は、半導体業界の技術革新とともに数十年にわたる実績から生まれたものです。

 

CMP、リソグラフィ向けでは、お客様と協力して、スラリーやレジストなどさまざまな流体向けに対応できる、より効率的で経済的な製品の開発に継続的に取り組んでいます。

 

当社のろ過・分離・精製製品は、製造工程に必要な機能、品質を備え、コスト削減、生産性向上を実現することにより、多くの半導体メーカーのお客様から選ばれております。

 

Particle removal efficiency evaluation of filters in IPA

UC-O-006_FINAL_PAPER.pdf

化学薬品

汚染制御は、半導体デバイスの製造において最も重要な問題です。高純度化学薬品向けの大流量高精密フィルター等、厳しい条件下での汚染制御に対応できる製品を開発し、提供します。
汚染制御は、半導体デバイスの製造において最も重要な問題です。高純度化学薬品向けの大流量高精密フィルター等、厳しい条件下での汚染制御に対応できる製品を開発し、提供します。
詳細を読む

CMP

大きなスラリー粒子を効果的に除去し、スラリーの望ましい配合と性質を維持します。ILD、STI、タングステン、バルクCu、バリアCu 用など、多種多様なCMPスラリー用途に対応しています。
大きなスラリー粒子を効果的に除去し、スラリーの望ましい配合と性質を維持します。ILD、STI、タングステン、バルクCu、バリアCu 用など、多種多様なCMPスラリー用途に対応しています。
詳細を読む

リソグララフィ

当社独自の膜材料を使用したリソグラフィ用フィルターが。粒子、金属、ゲル、マイクロバブルの発生を防止します。フィルターの最適化設計により、立ち上げ時の薬液使用量を削減し、ウエハー表面の欠陥低減し、歩留まりが向上します。
当社独自の膜材料を使用したリソグラフィ用フィルターが。粒子、金属、ゲル、マイクロバブルの発生を防止します。フィルターの最適化設計により、立ち上げ時の薬液使用量を削減し、ウエハー表面の欠陥低減し、歩留まりが向上します。
詳細を読む

プロセスガスのろ過

プロセスガス用フィルターは、当社の優れたろ過技術により、粒子を効果的に除去します。高い粒子除去効率、高流量かつ低差圧、脱ガス低減といった利点があります。また厳しい高純度を要求されるガスシステムでは、さらなる汚染低減のため、オールメタル・ガスフィルターが使われています。
プロセスガス用フィルターは、当社の優れたろ過技術により、粒子を効果的に除去します。高い粒子除去効率、高流量かつ低差圧、脱ガス低減といった利点があります。また厳しい高純度を要求されるガスシステムでは、さらなる汚染低減のため、オールメタル・ガスフィルターが使われています。
詳細を読む

プロセスガスの精製

従来の粒子ろ過技術では不十分な分野では、有害な分子汚染を排除し最小にする方法が不可欠となっています。当社の大流量ガス精製システムは、分子不純物の除去に高い効果があり、製品寿命が長く、設備コストの低減に貢献します。
従来の粒子ろ過技術では不十分な分野では、有害な分子汚染を排除し最小にする方法が不可欠となっています。当社の大流量ガス精製システムは、分子不純物の除去に高い効果があり、製品寿命が長く、設備コストの低減に貢献します。
詳細を読む

Trace moisture detection

Pall Trace Moisture Detection systems provide early warnings of purifier end-of-life and the identification of unwanted moisture contamination in process gas lines. They are ideal for certifying and qualifying ultrahigh purity argon, nitrogen and clean dry air (CDA) in a compact mobile platform.
Pall Trace Moisture Detection systems provide early warnings of purifier end-of-life and the identification of unwanted moisture contamination in process gas lines. They are ideal for certifying and qualifying ultrahigh purity argon, nitrogen and clean dry air (CDA) in a compact mobile platform.
詳細を読む

超純水

超純水ろ過製品は、シリカや細菌分解物といったコロイド状不純物を除去します。超純水システム用フィルターや精製装置は、効率的に汚染を排除し、金属イオンや粒子状汚染による有害な影響を軽減します。
超純水ろ過製品は、シリカや細菌分解物といったコロイド状不純物を除去します。超純水システム用フィルターや精製装置は、効率的に汚染を排除し、金属イオンや粒子状汚染による有害な影響を軽減します。
詳細を読む

ウェット洗浄

エッチングや洗浄用の薬液において管理する粒子サイズは10nm、およびそれ以下となっています。HFやBOEの循環ろ過では、5nmや2nmのシングルナノメーター領域の粒子除去にも対応しています。ポール独自の膜技術によって生まれた特許取得済みの高非対称膜の採用により、高流量、低圧損を実現し、槽内のクリーンアップを改善できます。
エッチングや洗浄用の薬液において管理する粒子サイズは10nm、およびそれ以下となっています。HFやBOEの循環ろ過では、5nmや2nmのシングルナノメーター領域の粒子除去にも対応しています。ポール独自の膜技術によって生まれた特許取得済みの高非対称膜の採用により、高流量、低圧損を実現し、槽内のクリーンアップを改善できます。
詳細を読む

微細化対応 高流量・高清浄度フィルター

半導体製造プロセスに必要な、「品質とプロセスの改善」および、「コスト削減と生産性の向上」に役立つ最先端のろ過・分離・精製製品を開発し、提供しています。

半導体製造プロセスにおいては、有害な分子汚染を排除し最小にする技術が不可欠です。ポールフィルターは、より微細なコンタミ(汚染物)を除去するとともに、高流量を実現します。ろ過精度の微細化と高流量ろ過は、同時には成立できないトレードオフの関係から、高度な技術開発が求められています。このような高度な要求に応えるために、当社独自のウルチプリーツ構造やフィルターメディア技術を駆使し、されにフィルターケージの大口径化により、ろ過精度の微細化と高流量を両立しました。

 

ポールは、EPA指令2010/15 PFOA自主削減プログラムに従い、フロロポリマー材料の製造において、プロセス促進剤としてのパーフロロオクタン酸(PFOA)の使用を完全に排除しました。このプログラムは、世界最大のフロロポリマー・メーカーとそのエンドユーザーによって世界的に採用されています。「PFOAフリー」とは、PFOAを一切使用せずに製造されたフィルター材料であることを示します。ウェットエッチや洗浄用途でのフロロポリマー・フィルター成分はすべて、PFOAフリーの材料認証を取得しています。

イソプロピル・アルコール(IPA)は、半導体産業におけるウエハー乾燥工程において一般的に使用されている薬液です。半導体デバイスの微細化が進むにつれ、IPA中の汚染制御レベルも一層厳しくなってきています。こうした汚染を低減するために、ろ過技術は重要な役割を担っており、このニーズに応えるため、ポールは市場で最先端の技術を提供するべく注力しています。厳しくなる汚染制御レベルに合わせて、IPA用フィルターが除去する粒子サイズを小さくすることが求められています。もう一つ、IPA用のフィルターには、フィルター自体からの溶出物を最小限にすることが要求されます。従来、一般的に使用されていたHDPE膜を使用したフィルターに代わり、PTFE膜フィルターがより多く使用されるようになってきています。

 

半導体デバイス製造の進化とともに、ナノレベルのコンタミ除去が求められています。当社は市場の進化とともに、要求に合致した製品作りに邁進していきます。

フィルター性能の4つの特性-除粒子性能、流量特性、清浄度、耐久性に重点をおいて製品を開発しています。