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ウェット洗浄

品質の向上、  欠陥の防止

粒子除去による、太陽電池ウェハー表面の清浄度向上と歩留まりの改善

ポールのウェット洗浄用フィルターは、再循環化学槽、高圧ジェット噴霧、機械式スクラビングシステムなどの洗浄装置で使用されています。

 

化学槽から粒子を除去し、ウェハー表面を効果的に洗浄するには効果的なろ過が不可欠です。ポールの洗浄用フィルターは、太陽電池表面の電気特性を低下させる化学槽内の不純物を強力に除去します。

 

ポールは薬液、ガス、水のろ過用途に最適な幅広い製品群を取り揃えています。

 

  • 再循環槽
  • シングルパスシステム
  • 高速ジェット噴霧システム
  • クイックダンプリンスシステム
  • 機械式スクラビングシステム

 

再循環槽向け結晶シリコンセルの

化学薬品ろ過

 

ポールのフィルターは、不純物を捕らえるバリアを形成することで、洗浄やエッチング工程におけるウェハー表面の粒子汚染を強力に除去します。重要なオリフィス(洗浄ノズル)を保護することは、目詰まりや目詰まりによる予定外の装置ダウンタイム発生を防止するために欠かせない手順です。

 

効率に優れたポールのろ過装置をラインに組み込むことで、再循環槽における液体再生効率を最大化することが可能です。ろ過によって循環槽薬液の使用寿命を大きく延ばすことができます。循環槽の清浄度が向上すると、薬液内の汚染物質からウェハー表面に欠陥が広がることを防止でき、ウェハーの品質が向上します。

 

表面鋸損傷エッチングとテクスチャ構造形成用のろ過

 

プロファイルA/Sフィルターは、高温・高濃度汚染された腐食性薬液のために特別に設計されたコスト効果に優れたフィルターで、アルカリのテクスチャ構造形成に適しています。

 

リンの拡散、酸化膜エッチング、エッジアイソレーション用ろ過

 

“クラリス”フィルターはオールポリプロピレン製のテーパー孔構造で、長寿命です。構造に界面活性剤、バインダー、接着剤を使用せず、有害な化学反応をしないより安全なメディアです。

 

“ネクシスNXT”フィルターは“クラリス”フィルターに似ていますが、最高使用温度・耐差圧が高く、様々な厳しい用途向けで使用することができます。

 

“プロファイルⅡ”フィルターは、オールポリプロピレン製の高多孔構造で、長寿命です。構造に界面活性剤、バインダー、接着剤を使用せず、有害な化学反応をしないより安全なメディアです。

 

反射防止膜のろ過

 

反射防止膜やアモルファスシリコン膜を形成するために使われる水素とシランガスの分子汚染は、不均一なコーティングやその他粒子生成から発生する欠陥など多くのプロセス不良を招きます。

 

“ガスクリーンⅡ”ピューリファイヤーは、水素ガスとシランガスから水分と酸素を1 ppb未満のレベルにまで除去します。またシランガスから微量レベルのシロキサンとドーパント金属(As、P、Al、Bなど)を除去します。

 

“ガスクリーンライト”フィルターは、太陽電池製造向けガスろ過の最先端技術を最小限のコストで提供できるように設計されています。

 

ハウジングの推奨製品

 

メガプラスト・ハウジング

 

  • ポリプロピレン、PVDFPFAの3つの材質から選択可能
  • サイズ:10インチ、20インチ
  • マニホールド接続

 

利点: 

 

  • プロセス安定性強化
  • 面積効率/プロセス効率の向上
  • 薬品の長寿命化
  • ハードディスク欠陥の低減
  • 予定外装置ダウンタイムの減少

 

ウェット洗浄用フィルターは重要な洗浄システムから汚染による欠陥を削減します。プロセス条件をの管理、運転効率の向上、歩留まりの改善については、当社まで、お問い合わせください。

プロセス効率向上などのお問い合わせは、下記にご記入ください。

 

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  • マイクロエレクトロニクス
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製造プロセスで使用される幅広い流体について、ろ過・分離・精製の技術を提供いたします.

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