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マイクロエレクトロニクス

ディスプレイ

レジスト塗布、基板洗浄、エッチング、剥離、純水洗浄などのプロセス向上をサポートします

進化し続けるディスプレイ製造技術

お客様のニーズにあわせて革新的で効率的なろ過・分離・精製技術を提供します。

フラットパネルディスプレイのメーカーは、常に費用対効果の高いディスプレイ製造に取り組んでいます。

 

世界的なフラットパネル市場の80%以上を占めるTFT-LCD(薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ)のメーカーは、多様化する画素分解性能の要求を達成するにあたり、新たな製造技術を導入する必要があります。

 

これらの課題に取り組むためには、第8世代以後の場合、製造中に使用される液体や気体への汚染制御管理が不可欠です。

 

 

どのような用途や要件においても、ディスプレイメーカーが欠陥を減らし、ダウンタイムを最小限に抑え、ディスプレイ品質を改善し、収益性を高めることができるように、当社の技術と専門知識でサポートいたします。

 

データ記憶装置の面密度が増大したことで、汚染管理が極めて重要になってきました。ディスク単価を可能な限り最小に抑えながら歩留まりを最大化するためには、適切なフィルター技術の選択が最重要です。ポールは、こうした要求に対応するためのろ過技術、製造実績、プロセス知識を備えています。

CDA

複雑なディスプレイ製造工程では、CDAが様々な工程で使用されており、空圧システムの効率化に不可欠です。粒子汚染は空圧システムの摩耗を急速に加速させ、バルブが閉塞してダウンタイムや運用コストの増加につながります。
複雑なディスプレイ製造工程では、CDAが様々な工程で使用されており、空圧システムの効率化に不可欠です。粒子汚染は空圧システムの摩耗を急速に加速させ、バルブが閉塞してダウンタイムや運用コストの増加につながります。
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洗浄

洗浄工程において、化学反応、表面欠陥、効果のない洗浄などのプロセス低下につながる不純物と汚染を除去します。当社では、腐食性薬液(オゾン水、HF、フォトレジストなど)にも化学的に適合可能なフィルターを多種ご用意しています。
洗浄工程において、化学反応、表面欠陥、効果のない洗浄などのプロセス低下につながる不純物と汚染を除去します。当社では、腐食性薬液(オゾン水、HF、フォトレジストなど)にも化学的に適合可能なフィルターを多種ご用意しています。
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カラーフィルター

捕捉された粒子や汚染物質、泡、ゲルなどはLCDカラーフィルターの表面に不均一性をもたらします。層の均一性を維持し、ピンホール発生の可能性を排除し、製品品質を最大化するために、有害な不純物の管理が必要です。
捕捉された粒子や汚染物質、泡、ゲルなどはLCDカラーフィルターの表面に不均一性をもたらします。層の均一性を維持し、ピンホール発生の可能性を排除し、製品品質を最大化するために、有害な不純物の管理が必要です。
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ガスのろ過・精製

ポール独自のプロセスガスろ過・精製システムは、粒子や不純物分子を効果的に除去します。製品の歩留まりを低下させる粒子や不純物を低減し、重要なディスプレイ製造工程での欠陥を抑えます。
ポール独自のプロセスガスろ過・精製システムは、粒子や不純物分子を効果的に除去します。製品の歩留まりを低下させる粒子や不純物を低減し、重要なディスプレイ製造工程での欠陥を抑えます。
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リソグラフィ

ポールのリソグラフィ用フィルターは様々な当社独自の膜材料を使用し、金属汚染や、ゲル、マイクロバブルの発生を最小化します。フィルターの最適化設計により、立ち上げ時の薬液使用量が減り、基板表面の欠陥は最小になります。
ポールのリソグラフィ用フィルターは様々な当社独自の膜材料を使用し、金属汚染や、ゲル、マイクロバブルの発生を最小化します。フィルターの最適化設計により、立ち上げ時の薬液使用量が減り、基板表面の欠陥は最小になります。
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ODF

ポールのODFろ過システムは、表面欠陥を削減するために、欠陥を引き起こすゲル状粒子や汚染物質を液晶(LC)材料から除去します。低圧条件向けに設計され、欠陥をもたらす気泡を除去するフィルターにより、重要な液晶表面の欠陥を削減します。
ポールのODFろ過システムは、表面欠陥を削減するために、欠陥を引き起こすゲル状粒子や汚染物質を液晶(LC)材料から除去します。低圧条件向けに設計され、欠陥をもたらす気泡を除去するフィルターにより、重要な液晶表面の欠陥を削減します。
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有機材料と印刷

高品質インクジェット用ろ過は、適切な色素沈着とアウトプット再現性を実現するために、コストを最小限に抑えながら最適化する必要があります。汚染物質による有機膜の表面欠陥などは、費用対効果の高いろ過システムの導入で大幅に削減可能です。
高品質インクジェット用ろ過は、適切な色素沈着とアウトプット再現性を実現するために、コストを最小限に抑えながら最適化する必要があります。汚染物質による有機膜の表面欠陥などは、費用対効果の高いろ過システムの導入で大幅に削減可能です。
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ウェット洗浄

プロセス低下につながるような化学反応、表面欠陥、効果のない洗浄等は、ディスプレイ品質の低下を引き起こします。ウェット洗浄用フィルターにより不純物や汚染物質を除去する必要があります。
プロセス低下につながるような化学反応、表面欠陥、効果のない洗浄等は、ディスプレイ品質の低下を引き起こします。ウェット洗浄用フィルターにより不純物や汚染物質を除去する必要があります。
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プロセスガスの分析 不純物の除去

最先端のディスプレイ洗浄システムでは、高流量を実現し、高度なプロセスガス分析や粒子除去ができます。

ポールは、ディスプレイ製造工程用のプロセスガス分析やろ過技術を提供します。フラットパネルディスプレイのメーカーは、常に費用対効果の高いディスプレイ製造に取り組んでいます。ディスプレイメーカーは、多様化する画素分解性能の要求を達成するにあたり、新たな製造技術を導入する必要があります。これらの課題に取り組むためには、製造中に使用される液体や気体への汚染制御管理が不可欠です。

Pall provides process gas analysis and filtration technology solutions for microelectronics display production.