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半導体

半導体製造工程で使用される化学薬品、ガス、水、CMPスラリー、レジスト等の様々な流体に関して、ろ過・分離・精製技術を提供します。
半導体製造工程で使用される化学薬品、ガス、水、CMPスラリー、レジスト等の様々な流体に関して、ろ過・分離・精製技術を提供します。
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データストレージ

この10年で、ますます大きな記憶容量へのニーズが高まり、データ記憶装置産業は目覚ましい拡大を遂げています。面密度が増大したことで、効率的な生産プロセスのためには、粒子、不純物、汚染の管理が極めて重要になっています。
この10年で、ますます大きな記憶容量へのニーズが高まり、データ記憶装置産業は目覚ましい拡大を遂げています。面密度が増大したことで、効率的な生産プロセスのためには、粒子、不純物、汚染の管理が極めて重要になっています。
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ディスプレイ

複雑なディスプレイ産業では、様々な工程でプロセスガスが使用されています。プロセスガス流路から粒子が適切に除去されないと、欠陥が増え製品歩留まりが低下します。ポールのディスプレイ用ろ過システムは、プロセス低下につながる不純物や汚染物を除去します。
複雑なディスプレイ産業では、様々な工程でプロセスガスが使用されています。プロセスガス流路から粒子が適切に除去されないと、欠陥が増え製品歩留まりが低下します。ポールのディスプレイ用ろ過システムは、プロセス低下につながる不純物や汚染物を除去します。
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印刷機、インク

人類の歴史を通じて、技術の発展が印刷産業を形成してきました。エジプトの象形文字からグーテンベルグの印刷機まで、新たな革新によって、人と人との新しい交流方法やコミュニケーション手段が生み出されてきました。業界をリードするポールのろ過技術は、次の進歩につながります。
人類の歴史を通じて、技術の発展が印刷産業を形成してきました。エジプトの象形文字からグーテンベルグの印刷機まで、新たな革新によって、人と人との新しい交流方法やコミュニケーション手段が生み出されてきました。業界をリードするポールのろ過技術は、次の進歩につながります。
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太陽電池

大規模な太陽電池の生産により、要求される製造精度レベルがますます高まりつつあります。太陽電池の製造プロセスは、汚染に対して極めて敏感です。ポールは水再生システムやプロセスガス等のろ過に、最先端のろ過技術を提供します。
大規模な太陽電池の生産により、要求される製造精度レベルがますます高まりつつあります。太陽電池の製造プロセスは、汚染に対して極めて敏感です。ポールは水再生システムやプロセスガス等のろ過に、最先端のろ過技術を提供します。
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厳しい製造工程の要求にお応えする解決技術

マイクロエレクトロニクス業界向けの最先端のろ過技術により、稼働・維持費の低減、装置の総合設備効率と稼働率の劇的な向上、薬液寿命の延長、欠陥低減、そして製品品質と歩留まりの最大化に貢献しました。

豊富な実績のあるポールのろ過システムは、マイクロエレクトロニクス産業で幅広く使用され、コスト低減、信頼性の向上、製造プロセスの効率の最大化をサポートしています。さらなる生産拡大に応じて、効率的な製造プロセス実現のためには、粒子、不純物、汚染の管理が極めて重要です。こうした課題を解決できれば、生産稼働時間、メンテナンス頻度、製品品質、設備寿命、事業成果全体に直接貢献することができます。

 

今日、半導体デバイスの設計では、薄膜化、高速化、記憶容量増大化、回路の複雑化がさらに進んでいます。これに対応する新技術では、こうしたデバイスを効率的に製造するため、使用する薬液やシステムに高い清浄度が要求されます。より速い、より小さい製品を求める業界傾向を受けて、ろ過の役割が一層重要になっています。

 

エレクトロニクス製品の製造プロセスは汚染に極めて敏感で、不純物や粒子がほんのわずかに混入するだけで製品品質が低下します。水や粒子等の不純物は、製造工程の各段階に直接影響し、予期せぬメンテナンス作業を増やし、表面欠陥を生じさせ、ダウンタイムによるコスト増加を招き、最終製品の品質と性能の大きな低下をもたらします。

 

プロセスガス流路から分子レベルの粒子を除去することは、設備の寿命維持に欠かせないだけでなく、最終製品に期待される品質と性能の実現につながります。新製品に必要とされる集積回路デバイスを効率的に製造するには、重要な製造プロセスから汚染を一切排除する必要があります。

汚染除去ができなければ、欠陥品が発生し、絶縁破壊を引き起こし、コスト増を招きます。

 

市場がより一層安価なエレクトロニクス製品を求める中で、製造メーカーは、価格競争に打ち勝つために、製造コストは最大の関心事です。製造コストの削減を実現するには効果的なろ過が不可欠です。優れたろ過技術の導入により、薬液使用期間が延長され、欠陥が減り、設備寿命が延び、プロセスが安定化します。

 

当社のろ過技術、製造実績、プロセス知識は、マイクロエレクトロニクス産業におけるあらゆる重要プロセスの改善に活用いただけます。
 

 

プロセスガス、スラリー、高純度化学薬品、インクジェット用インク、溶剤、レジストなど、多様なプロセス流体のろ過用に高性能製品を提供しています。原材料の前処理用から、最終コーティング加工用等まで、マイクロエレクトロニクス製造メーカーのお客様が要求する最先端レベルまで対応できる膜ろ過製品を開発しています。

 

当社のろ過技術は、重要プロセス流体から粒子や不純物などの汚染を除去します。生産効率を上げ、製品性能を改良し、事業成果全体を向上させる、プロセス条件のより優れた制御方法については、当社までお問い合わせください。